（1）仪器名称：场发射透射电子显微镜/Field emission transmission electron microscope（FE-TEM）
（2）生产厂商：日本电子株式会社；型号：JEOL/JEM-F200
（3）工作原理：
电子枪发射电子，经高压加速至光速的50%-80%，形成高速电子束。聚光镜系统将电子束聚焦后，照射到样品上。电子束穿过样品时，会与样品中的原子发生弹性散射（方向改变）和非弹性散射（能量损失），携带样品内部信息的电子束随后进入成像系统。
成像系统由一系列电磁透镜（物镜、中间镜、投影镜）组成。物镜首先将透射电子束放大，中间镜和投影镜进一步放大图像，最终由高分辨率传感器（如CCD相机）接收并形成图像。通过选择不同的电子信号（如透射电子或散射电子），可以获得明场像、暗场像或衍射图案，从而观察样品的晶体结构、缺陷等细节。
（4）主要功能及应用：
透射电子显微镜主要用于地质样品、材料的高分辨形貌观察和微区的晶体结构分析。日本电子株式会社（JEOL）的JEM-F200场发射透射电子显微镜具有智能化设计、全自动进样操作以及先进的扫描系统等优点。系统由电子光学系统、高压系统、真空系统等部分组成，可以在极短时间内得到高分辨率的图像观察。同时，结合配备的高灵敏度能谱仪可以实现快速的成分分析。
（5）主要技术指标：
主要配件：
高分辨场发射透射电子显微镜基本单元（包括高压罐、电子枪、镜筒、高角环形暗场探头（HAADF）、明场探头（BF）、背散射探头（BEI）等）、冷却水循环系统、压缩机、电镜控制工作站、样品杆、扫描透射附件（STEM）系统、能谱仪（EDS）、透射电镜用CMOS底插相机。
工作模式：
涵盖传统成像（TEM）、扫描透射成像（STEM）、电子衍射（SAED/CBED）及能谱分析（EDS）。
加速电压：200kV
分辨率：
TEM 晶格分辨率：0.1 nm；
TEM 点分辨率：<0.23 nm；
STEM 暗场分辨率：0.16 nm；
二次电子分辨率：<0.65 nm；
200 KV能谱分辨率(Single SDD)：Mn分辨率 ≦129 eV。
拍摄图片类型：高分辨、明场、暗场、选区衍射、纳米束衍射、会聚束衍射、二次电子表征图。
（6）制样和送样：
制样：
样品厚度小于100 nm。
非均质样品，建议采用FIB制样。
均一样品，1 μm以下颗粒超声分散至铜网。
根据个人需要选择合适的铜网及观察模式。
送样：
透射电子显微镜收费标准为800元/小时，每半小时为计费单元，超出15分钟计半小时，不足15分钟不计。
粉末样品制备50元/样（不含研磨，含普通铜网、溶剂、超声、烤干等）。
实验室提供国产普通碳支持膜铜网（200目），如需其他类型载网可自备。
易挥发样品需提前声明，视实际情况决定是否能进行测试，不接受磁性样品。
实验预约及详情咨询可联系
魏强：18675850103
王微：13866169714
